Nanostruktúrált rács-szerű alakzatok vizsgálata elektromágneses tér szimulációval

Nyomtatóbarát változatNyomtatóbarát változat
Cím angolul: 
Investigation of nanostructured grid-like structures by electromagnetic field simulation
Típus: 
MSc diplomamunka téma - optika és fotonika
Félév: 
2018/19/2.
Témavezető: 
Név: 
Dr. Balogh Emeric
Email cím: 
emeric.balogh@semilab.hu
Intézet/Tanszék/Cégnév: 
SEMILAB Zrt. (1117 Budapest, Prielle Kornélia utca 2.)
Beosztás: 
fejlesztőmérnök
Konzulens: 
Név: 
Dr. Beleznai Szabolcs
Email cím: 
beleznai@eik.bme.hu
Intézet/Tanszék: 
Fizika Intézet, Atomfizika Tanszék
Beosztás: 
Egyetemi Adjunktus
Hallgató: 
Név: 
Egri Dávid
Képzés: 
Fizikus MSc - optika és fotonika
Elvárások: 

Elektromágneses tér szimulációban való jártasság, angol nyelvtudás, optikai ismeretek.

 

 

Leírás: 

A Semilab Zrt. más ipari partnerekkel közösen optikai méréstechnikát fejleszt diffrakciós rács-szerű struktúrák gyors, megbízható és érintésmentes karakterizálása céljából. Ilyen jellegű minta szerkezeteket használnak pl. vertikális orientációjú lézer eszközök kialakításakor különböző alkalmazásra (optikai kapcsolók, távolságmérő szenzorok, stb.). Az optikai rács feladata ebben az esetben a stabil, egymódusú lézer kibocsájtás elősegítése.

 

  • A hallgató feladata, hogy megismerje a Semilab Zrt. által fejlesztett elektromos térszimulációs szoftver csomagot, és végezzen összehasonlítást a kereskedelmi forgalomban kapható egyéb szoftverek között (melyek a Semilab-nál szintén rendelkezésre állnak). Modellezze a lézer eszköz gyártása során kialakított rács szerkezeteket az elérhető szoftverekkel és tegyen javaslatot a szükséges minimális modellezési apparátusra, megengedhető közelítésekre.
  • Hasonlítsa össze a modell által számolt spektrális eredményeket az optikai mérőműszer által mért spektrumokkal. Vizsgálja a numerikus modellezésnél használt, valódi mért spektrumokra illesztett paraméterek egymás közötti korrelációját. Adjon javaslatot az optimális fittelő algoritmus típusra és paraméterezésre a kiértékelési tapasztalatok alapján.
  • Határozza meg az ipari monitorozás számára releváns mérőszámok fittelésből származó numerikus stabilitását, és becsülje meg hogy ez hogyan aránylik a mérésből származó jel/zaj viszonyhoz.
  • Mindehhez szakirodalmi források mellett a Semilab Zrt-nél rendelkezésre álló műszerek (pl. polarizált spektroszkópiai reflektométer, spektroszkópiai ellipszométer, atomerőmikroszkópia, stb.) és optikai szimulációs programok eredményei is felhasználhatóak.

 

Titkosítas: 
Hozzáférés nincs korlátozva