A határfelületeken nanoskálán lezajló jelenségek megértése alap és alkalmazott kutatási szempontból is egyre nagyobb jelentőségű. A méréstechnikák fejlődése olyan folyamatokba enged egyre mélyebb betekintést, amelyek eddig csak ex situ vizsgálatokkal voltak elérhetők. Polarizációérzékeny folyamatkövető optikai mérésekkel nanométeres vastagság és másodperces időfelbontással követhetők a határfelületi folyamatok hőkezelés, elektrokémiai rétegnövesztés vagy molekulák adszorpciója közben. A munkához használt kvantitatív polarizációérzékeny spektroszkópiai módszer, az ellipszometria alkalmas a kialakuló szerkezetek paramétereinek (vastagság, törésmutató, összetétel, fedettség, stb.) meghatározására és időbeli nyomon követésére. A projektben opcionálisan bevethető az úgynevezett kombinatorikus mintakészítés, amellyel laterálisan változó összetételt és vastagságot lehet előállítani, így az optikai módszerek térképezési képességeit kihasználva optimális szenzorikai vagy más eszközparaméterek határozhatók meg csökkentett számú mintakészítési lépésben. A jelölt feladatai: (1) a mintakészítési és méréstechnikai módszerek megismerése, (2) folyamatkövető optikai mérések végzése, (3) optikai és kinetikai modellek alkotása a folyamatok nyomon követésére, (4) a mérési eredmények értelmezése és ezek alapján javaslatok kidolgozása a mintakészítési, mérési és kiértékelési módszerek optimalizálására.